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磁控离子溅射镀膜仪(XY_BX20250011)采购公告

磁控离子溅射镀膜仪(XY_BX20250011)采购公告

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信息时间:
2025-05-07
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磁控离子溅射镀膜仪(XY_BX******)采购公告

发布时间:2025-05-07 15:10:16

项目信息

项目名称:磁控离子溅射镀膜仪

项目编号:XY_BX******

公告开始日期:******85000

公告截止日期:******00000

******服务中心)

付款方式:2.所有货物经甲乙双方验收合格并签署验******银行电汇方式付给乙方全额货款。

联系人:中标后在我参与的项目中查看

联系电话:中标后在我参与的项目中查看

签约时间要求:成交后3个工作日内

到货时间要求:合同签订后10个工作日内

预算:¥90000.00

******大学指定地点

供应商资质要求:符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

公告说明:

采购清单

采购商品:磁控溅射离子镀膜仪

采购数量:1

计量单位:台

所属分类:

品牌:上海众濒

型号:CIS400TF

预算:¥90000.00

技术参数及配置要求:1.溅射靶头采用平面磁控靶设计;
2.系统采用单片机等微处理器控制,全数字显示;
3.真空室采用高透光率的硼硅玻璃,内径200mm,高度130mm;
4.最大工作电流200mA,最小5mA,步进量为1mA;
5.系统可实时显示分子泵转速、电压、电流、轴承温度等工作参数;
6.采用涡轮分子泵和旋片真空泵组合的真空泵组作为抽气单元,其中涡轮分子泵的抽速90L/s;
7.系统工作节拍可以在10分钟内优于5E-3Pa;
8.最长溅射时间999秒;
9.具备可旋转样品台,转速可调,最高转速20转/分;
10.内置20种靶材溅射参数,包括金、铂、铬、钨、钛、铝、镍等,可一键调用;
11.具备电流保护和真空保护功能,在电流过大、真空度较差时保证设备安全;
12.可实时显示靶材使用时间和设备工作时间;
13.可用实时曲线显示溅射电流和真空度;
14.系统采用ARM或单片机等微处理器控制,全数字显示,中文操作界面;彩色液晶屏显示,触摸屏操作,屏幕尺寸7英寸。
15.配置金靶、银靶各一块。

售后服务:售后服务要求:符合国家三包要求规定 免费质保一年 培训加安装;

查看项目详细信息

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